等離子清洗是利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。通過(guò)化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行處理，實(shí)現(xiàn)分子水平的污染物去除，從而提高工件表面活性。被清除的污染物可能有有機(jī)物、環(huán)氧樹(shù)脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等，所以等離子清洗是一種高精密清洗。對(duì)應(yīng)不同的污染物，應(yīng)采用不同的清洗工藝。一般來(lái)說(shuō)，根據(jù)選擇的工藝氣體不同，等離子清洗分為化學(xué)清洗、物理清洗及物理化學(xué)清洗。通過(guò)以下幾個(gè)反應(yīng)式及圖 1、圖 2 及圖 3 對(duì)清洗方式做詳細(xì)說(shuō)明：表面反應(yīng)以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗，又稱 PE。例 1：O2＋e－→ 2O※ +e－O※＋有機(jī)物→CO2+H2O 從反應(yīng)式可見(jiàn)，氧等離子體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變成易揮發(fā)的 H2O 和 CO2。 例 2：H2+e-→2H※+e-H※+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O從反應(yīng)式可見(jiàn)，氫等離子體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫濺射腐蝕（SPE）。 例：Ar＋e-→Ar++2e-Ar++沾污→揮發(fā)性沾污 Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動(dòng)能，然后轟擊在放在負(fù)電極上的被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、同時(shí)進(jìn)行表面能活化。表面反應(yīng)中物理反應(yīng)與化學(xué)反應(yīng)均起重要作用。
