MgO晶體
氧化鎂(MgO)是極好的單晶基片而廣泛應(yīng)用于制作鐵電薄膜、磁學(xué)薄膜、光電薄膜和高溫超導(dǎo)薄膜等,由于它在微波波段的介電常數(shù)和損耗都很小,且能得到大面積的基片(直徑2英吋及更大),所以是當(dāng)前產(chǎn)業(yè)化的重要高溫超導(dǎo)薄膜單晶基片之一。 可用于制作移動(dòng)通訊設(shè)備所需的高溫超導(dǎo)微波濾波器等器件。普若菲特可提供高純度的尺寸約2”x2”x 1”的低成本的MgO單晶,采用化學(xué)機(jī)械拋光制備出高質(zhì)量原子級(jí)表面的基片。
技術(shù)資料
相關(guān)產(chǎn)品
產(chǎn)品名稱(chēng) | 氧化鎂(MgO)晶體基片 |
技術(shù)參數(shù) | 晶體結(jié)構(gòu):立方晶系 晶格常數(shù):a=4.216 ? 密度:3.58 g/cm3 熔點(diǎn):2850°C 硬度:5.5 mohs 熱膨脹系數(shù):8×10-6/k 光學(xué)透過(guò):> 90% @ 200 ~ 400 nm > 98 %@ 500 ~ 1000 nm 晶體解理面:(100) 介電常數(shù):9.8 生長(zhǎng)方法:弧熔法 |
產(chǎn)品規(guī)格 | 常規(guī)晶向:(100)、(110)、(111) 晶向公差:±0.5° 常規(guī)尺寸:dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm,5x5x0.5mm 拋光情況:?jiǎn)螔?、雙拋、細(xì)磨 拋光面粗糙度:<111> Ra<15A<100>和<110> Ra<5A 注:尺寸及方向可按照客戶(hù)要求定做。 |
晶體缺陷 | 人工生長(zhǎng)單晶有可能存在晶體內(nèi)部缺陷。 |
標(biāo)準(zhǔn)包裝: | 1000級(jí)超凈室,100級(jí)超凈袋或單片盒封裝 |