MgO:LiNbO3晶片
純同成份鈮酸鋰晶體的缺點(diǎn)是抗激光損傷闕值很低,這限制了它的應(yīng)用領(lǐng)域。當(dāng)摻入5mol%MgO后,所生長MgO:LN晶體的抗激光損傷闕值提高1-2個數(shù)量級,極化反轉(zhuǎn)電壓從21KV/mm降至6KV/mm,紫外吸收邊紫移至310mm,OH-吸收峰紅移至3535cm-1,這些變化極大的拓展了LN晶體的應(yīng)用范圍。
技術(shù)資料
相關(guān)產(chǎn)品
產(chǎn)品名稱 | 光學(xué)級摻鎂鈮酸鋰(MgO:LiNbO3)晶片 |
產(chǎn)品規(guī)格 | 晶體結(jié)構(gòu):三方晶系 晶格常數(shù):a=5.147? c=13.856? 密度:4.7g/cm3 熔點(diǎn):1253℃ 生長方法:提拉法 |
產(chǎn)品規(guī)格: | 常規(guī)晶向:Z cut 晶向公差:±0.5° 常規(guī)尺寸:10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm5x5x0.5mm 拋光情況:單拋、雙拋、細(xì)磨 注:尺寸及方向可按照客戶要求定做。 |
晶體缺陷: | 人工生長單晶有可能存在晶體內(nèi)部缺陷。 |
標(biāo)準(zhǔn)包裝: | 1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝 |